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「廢氣處理」常用的廢氣處理設(shè)備有哪些?-王天琦

文章出處:廢氣處理公司 人氣:發(fā)表時(shí)間:2021-02-19
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[文章前言]:本文寫(xiě)的 常用的廢氣處理設(shè)備有哪些? ,這篇文章是由王天琦針對(duì)環(huán)保為您寫(xiě)的關(guān)于吸收的,具體請(qǐng)看:廢氣處理設(shè)備,主要是運(yùn)用不同工藝技術(shù),通過(guò)回收或去除減少排放尾氣的有害

  廢氣處理設(shè)備,主要是運(yùn)用不同工藝技術(shù),通過(guò)回收或去除減少排放尾氣的有害成分,達(dá)到保護(hù)環(huán)境、凈化空氣的一種環(huán)保設(shè)備。

吸收設(shè)備

  吸收法采用低揮發(fā)或不揮發(fā)性溶劑對(duì)VOCs進(jìn)行吸收,再利用VOCs和吸收劑物理性質(zhì)的差異進(jìn)行分離。

  含VOCs的氣體自吸收塔底部進(jìn)入塔內(nèi),在上升過(guò)程中與來(lái)自塔頂?shù)奈談┠媪鹘佑|,凈化后的氣體由塔頂排出。吸收了VOCs的吸收劑通過(guò)熱交換器后,進(jìn)入汽提塔頂部,在溫度高于吸收溫度或壓力低于吸收壓力的條件下解吸。解吸后的吸收劑經(jīng)過(guò)溶劑冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs氣體經(jīng)過(guò)冷凝器、氣液分離器后以較純的VOCs氣體離開(kāi)汽提塔,被回收利用。該工藝適合于VOCs濃度較高、溫度較低的氣體凈化,其他情況下需要作相應(yīng)的工藝調(diào)整。

活性炭吸附裝置

  在用多孔性固體物質(zhì)處理流體混合物時(shí),流體中的某一組分或某些組分可被吸表面并濃集其上,此現(xiàn)象稱(chēng)為吸附。吸附處理廢氣時(shí),吸附的對(duì)象是氣態(tài)污染物,氣固吸附。被吸附的氣體組分稱(chēng)為吸附質(zhì),多孔固體物質(zhì)稱(chēng)為吸附劑。

圖為20000風(fēng)量活性炭吸附裝置車(chē)間實(shí)拍01

  固體表面吸附了吸附質(zhì)后,一部被吸附的吸附質(zhì)可從吸附劑表面脫離,此現(xiàn)附。而當(dāng)吸附進(jìn)行一段時(shí)間后,由于表面吸附質(zhì)的濃集,使其吸附能力明顯下降而吸附凈化的要求,此時(shí)需要采用一定的措施使吸附劑上已吸附的吸附質(zhì)脫附,以協(xié)的吸附能力,這個(gè)過(guò)程稱(chēng)為吸附劑的再生。因此在實(shí)際吸附工程中,正是利用吸附一再生一再吸附的循環(huán)過(guò)程,達(dá)到除去廢氣中污染物質(zhì)并回收廢氣中有用組分。

催化燃燒設(shè)備

  燃燒法用于處理高濃度Voc與有惡臭的化合物很有效,其原理是用過(guò)量的空氣使這些雜質(zhì)燃燒,大多數(shù)生成二氧化碳和水蒸氣,可以排放到大氣中。但當(dāng)處理含氯和含硫的有機(jī)化合物時(shí),燃燒生成產(chǎn)物中HCl或SO2,需要對(duì)燃燒后氣體進(jìn)一步處理。

50000風(fēng)量活性炭催化燃燒設(shè)備工程案例實(shí)拍01

低溫等離子設(shè)備

  等離子體就是處于電離狀態(tài)的氣體,其英文名稱(chēng)是plasma,它是由美國(guó)科學(xué)muir,于1927年在研究低氣壓下汞蒸氣中放電現(xiàn)象時(shí)命名的。等離子體由大量的子、中性原子、激發(fā)態(tài)原子、光子和自由基等組成,但電子和正離子的電荷數(shù)必須體表現(xiàn)出電中性,這就是“等離子體”的含義。等離子體具有導(dǎo)電和受電磁影響的許多方面與固體、液體和氣體不同,因此又有人把它稱(chēng)為物質(zhì)的第四種狀態(tài)。根據(jù)狀態(tài)、溫度和離子密度,等離子體通??梢苑譃楦邷氐入x子體和低溫等離子體(包子體和冷等離子體)。其中高溫等離子體的電離度接近1,各種粒子溫度幾乎相同系處于熱力學(xué)平衡狀態(tài),它主要應(yīng)用在受控?zé)岷朔磻?yīng)研究方面。而低溫等離子體則學(xué)非平衡狀態(tài),各種粒子溫度并不相同。其中電子溫度( Te)≥離子溫度(Ti),可達(dá)104K以上,而其離子和中性粒子的溫度卻可低到300~500K。一般氣體放電子體屬于低溫等離子體。

光催化和生物凈化設(shè)備

  光催化是常溫深度反應(yīng)技術(shù)。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機(jī)污染物完全氧化成無(wú)毒無(wú)害的產(chǎn)物,而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術(shù)則需要在極高的溫度下才可將污染物摧毀,即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要幾百度的高溫。

  從理論上講,只要半導(dǎo)體吸收的光能不小于其帶隙能,就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴,該半導(dǎo)體就有可能用作光催化劑。常見(jiàn)的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物,如Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對(duì)特定反應(yīng)有突出優(yōu)點(diǎn),具體研究中可根據(jù)需要選用,如CdS半導(dǎo)體帶隙能較小,跟太陽(yáng)光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易發(fā)生光腐蝕,使用壽命有限。相對(duì)而言,Ti02的綜合性能較好,是最廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。

  公司專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)廢氣處理環(huán)保設(shè)備,設(shè)備有:rco催化燃燒設(shè)備、RTO蓄熱燃燒設(shè)備、光氧催化廢氣處理設(shè)備、光氧活性炭一體機(jī)、等離子光氧一體機(jī)、氣旋混動(dòng)噴淋塔、pp噴淋塔、活性炭吸附箱、脈沖式濾筒除塵器、脈沖布袋除塵器等環(huán)保設(shè)備,設(shè)備有低配、標(biāo)配、高配,加工的催化燃燒設(shè)備有co催化燃燒一體機(jī),在線、離線rco催化燃燒可以供您參考選擇,適應(yīng)您的不同的投資成本,歡迎新老客戶(hù)來(lái)公司考察,或者直接掃一掃添加微信,把您需要了解的設(shè)備告訴我們,我們提供設(shè)備的詳細(xì)參數(shù)、配置、價(jià)格,同時(shí)可以給您發(fā)一下公司車(chē)間正在加工設(shè)備的視頻、圖片或者公司資質(zhì)證書(shū)等,您可以撥打電話咨詢(xún):0531-83270456,15650589066

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